陈远喆虽然不算内行。
但是，作为身为声名远扬的投资界大佬，对于光刻机还是知道一二的。
就因为知道，所以此刻才显得如此震惊。
双重曝光光刻技术是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。
两次曝光是在同样的光刻胶上进行的，但使用不同的掩模版。
相比于紫外光刻技术，整整领先了一代。
而目前，全球知名半导体企业，所用的，还只是紫外光刻。
这玩意，明明还在试验阶段，陆一鸣是怎么搞到手的？
陈远喆心里很明白，就算是自己，不，就算是自己背后的高盛，也没有这样通天的手段。
将双重曝光光刻机给搞到手？
怎么听起来这么邪乎呢？
内容未完，下一页继续阅读