光刻机！
这是华国半导体技术的二十年之痛！
也是曾经被米国极力封锁，甚至是拿捏控制的技术。
如今，居然轻易就突破了？？？
由于曾经关于光刻机，有太多的假消息了，消息爆出来的时候，人们下意识的居然是不相信！
因为直到几个月前，有权威人士分析。
华国要突破光刻机技术，至少要等两年！
而且这两年，突破的还只是28nm制程的EUA光刻机。
如今骇人三连跳，10nm制程的光刻机突然就突破了，这怎么可能？！
只怕又是个噱头！！！
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